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emulsione UV resistente ai solventi
Clichè in Fotopolimero fotosensibile NEUTRI con sviluppo ad ACQUA
Evaporazione rapida
differenti tipi di fibre sintetiche grazie al sistema diretto bagnato su bagnato
TPL - TPR - TPU - TPY - TPSP
Prodotti Sviluppo Clichè Prodotti:Spazzola per Pulizia e Sviluppo emulsione UV resistente ai solventiDescrizione prodotti: Agente di sviluppo; Spazzola per pulizia e sviluppo, ideata per lo sviluppo dei Clich in Fotopolimero. Garantisce una pulizia omogenea su tutta la superficie; Lentini, per la visualizzazione dei tratti pi fini e dei particolari delle vostre incisioni; Anneritore Spray, un detergente con propriet antistatiche per la pulizia di pellicole sviluppate in foto unit. Agisce anche come anneritore per toner della pellicola. Il prodotto ha
